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이재용식 '초격차 전략' 속도…삼성, 평택 낸드 라인에 9조 투자
이재용식 '초격차 전략' 속도…삼성, 평택 낸드 라인에 9조 투자
클린룸 공사 착수…내년 하반기 최첨단 V낸드 양산
  • 김승종 기자
  • 승인 2020.06.01 14:34
  • 댓글 0
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평택캠퍼스 P2 라인 전경 (삼성전자 제공)
평택캠퍼스 P2라인 전경.(삼성전자 제공)

삼성전자가 경기 평택캠퍼스 2라인(P2)에 낸드플래시 생산라인을 추가로 구축한다. '언택트'(비대면) 확산과 5G(5세대 통신) 보급 등 중장기 메모리 수요 증가에 대응하기 위한 선제적 차원이다. 투자규모는 정확히 공개되지 않았지만 8조~9조원 정도인 것으로 알려졌다

삼성전자는 지난달 평택 P2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했다고 1일 밝혔다. 본격적인 양산은 내년 하반기로 예상된다.

이번 투자는 AI(인공지능), IoT(사물인터넷) 등 4차 산업혁명 도래와 5G 보급에 따른 중장기 낸드 수요 확대에 대응하기 위해 이뤄졌다.

특히 최근 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 사태로 '언택트' 라이프스타일 확산 추세가 더욱 가속될 것으로 예상되는 가운데, 삼성전자는 적극적인 투자로 미래 시장 기회를 선점해 나간다는 전략이다.

지난 2015년 조성된 평택캠퍼스는 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지로 세계 최대 규모의 생산라인 2개가 건설됐다. 이번 투자로 증설된 라인에서는 삼성전자의 최첨단 V낸드 제품이 양산될 예정이다.

삼성전자는 지난 2002년 낸드플래시 시장 1위에 올라 현재까지 18년 이상 독보적인 제조 기술 경쟁력으로 글로벌 시장 리더의 자리를 지키고 있다. 지난해 7월에는 업계 최초로 6세대(1xx단) V낸드 제품을 양산하기도 했다.

삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 최철 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 밝혔다.

삼성전자는 국내에는 화성과 평택, 해외에는 중국 시안에 낸드플래시 생산라인을 운영 중으로, 국내외 균형있는 투자를 통해 안정적인 글로벌 공급망을 유지하고 시장리더십을 더욱 강화할 예정이다. [프레스맨]


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